RTPCVD SiC ringeer meget udbredt i industrielle og videnskabelige områder i høje temperaturer og korrosive miljøer. Det spiller en vigtig rolle i halvlederfremstilling, optoelektronik, præcisionsmaskineri og kemisk industri. Specifikke applikationer omfatter:
1. Fremstilling af halvledere:RTP CVD SiC ringekan bruges til opvarmning og afkøling af halvlederudstyr, hvilket giver stabil temperaturkontrol og sikrer nøjagtigheden og konsistensen af processen.
2. Optoelektronik: På grund af sin fremragende termiske ledningsevne og høje temperaturbestandighed, RTPCVD SiC ringekan bruges som støtte- og varmeafledningsmaterialer til lasere, fiberoptisk kommunikationsudstyr og optiske komponenter.
3. Præcisionsmaskineri: RTP CVD SiC-ringe kan bruges til præcisionsinstrumenter og -udstyr i højtemperatur- og korrosive miljøer, såsom højtemperaturovne, vakuumanordninger og kemiske reaktorer.
4. Kemisk industri: På grund af dens korrosionsbestandighed og kemiske stabilitet kan RTP CVD SiC-ringe bruges i beholdere, rør og reaktorer i kemiske reaktioner og katalytiske processer.
Epi System
RTP system
CVD system
Produktydelse:
1. Mød processen under 28nm
2. Super korrosionsbestandighed
3. Super ren ydeevne
4. Super hårdhed
5. Høj tæthed
6. Høj temperatur modstand
7. Slidstyrke
Produktanvendelse:
Siliciumcarbidmaterialer har karakteristika af høj hårdhed, slidstyrke, korrosionsbestandighed og høj temperaturstabilitet. Produkter med fremragende omfattende ydeevne er meget udbredt i tørætsning og TF/diffusionsprocesser.
Produktydelse:
1. Mød processen under 28nm
2. Super korrosionsbestandighed
3. Super ren ydeevne
4. Super hårdhed
5. Høj tæthed
6. Høj temperatur modstand
7. Slidstyrke
Sammensat procesudvikling:
Grafit + Sic belægning
Solide CvD sic
Sintret SiC+CVD
SicSintered SiC
Udvikling af flere produkttyper:
Ring
Tabel
Susceptor
Brusehoved
