Vores firma levererSiC belægningprocestjenester på overfladen af grafit, keramik og andre materialer ved CVD-metoden, således at specielle gasser, der indeholder kulstof og silicium, kan reagere ved høj temperatur for at opnå Sic-molekyler med høj renhed, som kan aflejres på overfladen af coatede materialer for at danne enSiC beskyttelseslagtil epitaksy tønde type hy pnotisk.
Hovedtræk:
1.Høj renhed SiC-belagt grafit
2. Overlegen varmebestandighed og termisk ensartethed
3. FintSiC krystal belagtfor en glat overflade
4. Høj holdbarhed mod kemisk rengøring
Hovedspecifikationer afCVD-SIC belægning
| SiC-CVD egenskaber | ||
| Krystal struktur | FCC β-fase | |
| Tæthed | g/cm³ | 3.21 |
| Hårdhed | Vickers hårdhed | 2500 |
| Kornstørrelse | μm | 2~10 |
| Kemisk renhed | % | 99,99995 |
| Varmekapacitet | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Sublimeringstemperatur | ℃ | 2700 |
| Feleksural styrke | MPa (RT 4-punkt) | 415 |
| Youngs modul | Gpa (4pt bøjning, 1300 ℃) | 430 |
| Termisk udvidelse (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Termisk ledningsevne | (W/mK) | 300 |
