Beskrivelse
Siliciumcarbid epitaksialWafer Discs til VEECO Equipment fra semicera er præcisionskonstrueret til avancerede epitaksiale processer, hvilket sikrer resultater af høj kvalitet i bådeSi EpitaksiogSiC Epitaksiapplikationer. Disse waferskiver er specielt designet til VEECO-udstyr, hvilket forbedrer ydeevnen og effektiviteten af forskellige halvlederfremstillingsprocesser. Semiceras ekspertise garanterer enestående holdbarhed og præcision til kritiske applikationer.
Disse epitaxial wafer discs er ideelle til brug medMOCVD Susceptorsystemer, der giver robust support til væsentlige komponenter som f.eksPSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier, ogRTP-bærer. Derudover tilbyder de forbedret kompatibilitet medLED Epitaksial Susceptor, Barrel Susceptor og Monocrystalline Silicon processer, der sikrer, at dine produktionslinjer opretholder de højeste standarder for effektivitet og nøjagtighed.
Disse waferskiver er designet til avanceret teknologi og bidrager væsentligt til produktionen af fotovoltaiske dele og letter komplekse processer som GaN på SiC Epitaxy. Uanset om de bruges til Pancake Susceptor-konfigurationer eller andre krævende applikationer, danner semiceras siliciumcarbid epitaksiale waferskiver et pålideligt grundlag for avanceret halvlederfremstilling, hvilket sikrer optimal ydeevne og langtidsholdbarhed.
Hovedtræk
1.Høj renhed SiC-belagt grafit
2. Overlegen varmebestandighed og termisk ensartethed
3. FintSiC krystal belagtfor en glat overflade
4. Høj holdbarhed mod kemisk rengøring
Hovedspecifikationer for CVD-SIC belægninger:
SiC-CVD | ||
Tæthed | (g/cc) | 3.21 |
Bøjningsstyrke | (Mpa) | 470 |
Termisk ekspansion | (10-6/K) | 4 |
Termisk ledningsevne | (W/mK) | 300 |
Pakning og forsendelse
Forsyningsevne:
10000 styk/stykker om måneden
Emballage og levering:
Emballage: Standard og stærk emballage
Polypose + æske + karton + palle
Havn:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Leveringstid:
Antal (stykker) | 1-1000 | >1000 |
Est. Tid (dage) | 30 | Skal forhandles |